Properties of manganese implanted silicon after pulse plasma annealing.

Dane publikacji
  
Typ publikacjiPublikacja w czasopi¶mie
Rodzaj publikacjiArtykuł
Tytuł publikacjiProperties of manganese implanted silicon after pulse plasma annealing.
Adres internetowy
Tytuł czasopismaVACUUM
Mediumpublikacja drukowana
Tom89
Zeszyt
Rok wydania2012
Od strony113
Do strony117
Numer publikacji
Język publikacjiAngielski
Język etniczny badanej kultury
Zasięgmiędzynarodowy
Rok sprawozdawczy2012

Lista autorów
  
 1. Z. Werner, Jednostka zewnetrzna [Współautor]
 2. C. Pochrybniak, Jednostka zewnetrzna [Współautor]
 3. M. Barlak, Jednostka zewnetrzna [Współautor]
 4. Jacek Gosk, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 5. Jacek Szczytko, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 6. Andrzej Twardowski, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 7. A. Siwek, Jednostka zewnetrzna [Współautor]