Properties of manganese implanted silicon after pulse plasma annealing.
Dane publikacji
Typ publikacji
Publikacja w czasopi¶mie
Rodzaj publikacji
Artykuł
Tytuł publikacji
Properties of manganese implanted silicon after pulse plasma annealing.
Adres internetowy
Tytuł czasopisma
VACUUM
Medium
publikacja drukowana
Tom
89
Zeszyt
Rok wydania
2012
Od strony
113
Do strony
117
Numer publikacji
Język publikacji
Angielski
Język etniczny badanej kultury
Zasięg
międzynarodowy
Rok sprawozdawczy
2012
Lista autorów
1.
Z. Werner,
Jednostka zewnetrzna
[
Współautor
]
2.
C. Pochrybniak,
Jednostka zewnetrzna
[
Współautor
]
3.
M. Barlak,
Jednostka zewnetrzna
[
Współautor
]
4.
Jacek Gosk
,
Zakład Fizyki Ciała Stałego
[
Współautor
]
5.
Jacek Szczytko
,
Zakład Fizyki Ciała Stałego
[
Współautor
]
6.
Andrzej Twardowski
,
Zakład Fizyki Ciała Stałego
[
Współautor
]
7.
A. Siwek,
Jednostka zewnetrzna
[
Współautor
]