Magnetic properties of manganese implanted silicon after pulse plasma annealing.

Dane publikacji
  
Typ publikacjiPublikacja w czasopi¶mie
Rodzaj publikacjiArtykuł
Tytuł publikacjiMagnetic properties of manganese implanted silicon after pulse plasma annealing.
Adres internetowyhttp://dx.doi.org/10.1016/j.vacuum.2012.02.036
Tytuł czasopismaVACUUM
Mediumpublikacja drukowana
Tom89
Zeszyt
Rok wydania2013
Od strony113
Do strony117
Numer publikacji
Język publikacjiAngielski
Język etniczny badanej kultury
Zasięgmiędzynarodowy
Rok sprawozdawczy2013

Lista autorów
  
 1. Z. Werner, Jednostka zewnetrzna; National Centre for Nuclear Research, Otwock, Poland [Współautor]
 2. C. Pochrybniak, Jednostka zewnetrzna; National Centre for Nuclear Research, Otwock, Poland [Współautor]
 3. M. Barlak, Jednostka zewnetrzna; National Centre for Nuclear Research, Otwock, Poland [Współautor]
 4. Jacek Gosk, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 5. Jacek Szczytko, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 6. Andrzej Twardowski, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 7. A. Siwek, Jednostka zewnetrzna; The AGH University of Science and Technology, Krakow, Poland [Współautor]