Growth Rate and Thickness Uniformity of Epitaxial Graphene

Dane publikacji
  
Typ publikacjiPublikacja w czasopiśmie
Rodzaj publikacjiArtykuł konferencyjny
Tytuł publikacjiGrowth Rate and Thickness Uniformity of Epitaxial Graphene
Adres internetowyhttp://www.scientific.net/MSF.645-648.569
Tytuł czasopismaMATERIALS SCIENCE FORUM
Mediumpublikacja drukowana
Tom645-648
Zeszyt
Rok wydania2010
Od strony569
Do strony572
Numer publikacji
Język publikacjiAngielski
Język etniczny badanej kultury
Zasięgmiędzynarodowy
Rok sprawozdawczy2010

Lista autorów
  
 1. Włodzimierz Strupiński, Jednostka zewnetrzna; Instytut Technologi Materiałów Elektronicznych [Współautor]
 2. Aneta Drabińska, Instytut Fizyki Doświadczalnej [Współautor]
 3. Rafał Bożek, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 4. Jolanta Borysiuk, Zakład Fizyki Ciała Stałego; Instytut Technologi Materiałów Elektronicznych [Współautor]
 5. Andrzej Wysmołek, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 6. Roman Stępniewski, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 7. Kinga Kościewicz, Jednostka zewnetrzna; Instytut Technologi Materiałów Elektronicznych [Współautor]
 8. Piotr Caban, Jednostka zewnetrzna; Instytut Technologi Materiałów Elektronicznych [Współautor]
 9. Krzysztof Korona, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 10. Kacper Grodecki, Zakład Fizyki Ciała Stałego; Instytut Technologi Materiałów Elektronicznych [Współautor]
 11. Pierre-Antoine Geslin, Jednostka zewnetrzna; Ecole Nationale Supérieure des Mines [Współautor]
 12. Jacek Baranowski, Zakład Fizyki Ciała Stałego; Instytut Technologi Materiałów Elektronicznych [Współautor]