High resolution X-ray diffraction defect structure characterization in Si-doped and undoped GaN films

Dane publikacji
  
Typ publikacjiPublikacja w czasopi¶mie
Rodzaj publikacjiArtykuł konferencyjny
Tytuł publikacjiHigh resolution X-ray diffraction defect structure characterization in Si-doped and undoped GaN films
Adres internetowy
Tytuł czasopismaMATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B-SOLID STATE MATERIALS FOR ADVANCED TECHNOLOGY
Medium
Tom91-92
Zeszyt
Rok wydania2002
Od strony441
Do strony444
Numer publikacji
Język publikacjiAngielski
Język etniczny badanej kultury
Zasięgmiędzynarodowy
Rok sprawozdawczy2002

Lista autorów
  
 1. Elżbieta Rohozińska, Zakład Badań Strukturalnych [Współautor]
 2. Małgorzata Kowalska, Studia dzienne - doktoranckie Wydziału Fizyki [Współautor]
 3. Valeri Harutyunyan, Jednostka zewnetrzna [Współautor]
 4. Krzysztof Pakuła, Zakład Fizyki Ciała Stałego [Współautor]
 5. Janusz Borowski, Zakład Badań Strukturalnych [Współautor]